峰面積減小，造成峰面積減小的主要原因有：微膜脫水、抑制器漏液、溶液流路不暢和微膜被玷污。抑制器長(zhǎng)期不用，會(huì)發(fā)生微膜脫水現(xiàn)象，為激活抑制器，可用注射器向陰離子抑制器內(nèi)以淋洗液流路相反的方向注入少許 0.2 mol／L 硫酸；陽(yáng)離子用 0.2 mol／L *。同時(shí)向再生液進(jìn)口注入少許去離子水，并將抑制器放置半小時(shí)以上。抑制器內(nèi)玷污的金屬離子可以用草酸溶液清洗。

    離子色譜儀的保護(hù)柱位于進(jìn)樣器與分析柱之間，作用主要兩方面，截留不溶性顆粒。吸附樣品基質(zhì)中的雜質(zhì)，如何選擇保護(hù)柱。保護(hù)柱的填料，與分析柱保持一致，填料品牌一致，才能100%確保選擇性一致。保護(hù)柱的規(guī)格，要與分析柱匹配，填料粒徑一致，保護(hù)柱的內(nèi)徑與分析柱的內(nèi)徑相近。對(duì)于精細(xì)分離，保護(hù)柱本身的裝填柱效要足夠好。對(duì)于精細(xì)分離或者小內(nèi)徑色譜柱分離，保護(hù)柱的連接死體積要盡可能小如果是用于UHPLC柱，還要考慮保護(hù)柱的耐壓能力。保護(hù)柱不理想，就會(huì)導(dǎo)致峰擴(kuò)散，分離度下降，不利于精細(xì)分離。理想的保護(hù)柱，即使分析柱短小如4.6×100mm，安裝保護(hù)柱后也未引起分離度與峰高的降低。如何使用保護(hù)柱，專柱。避免保護(hù)柱成為不同項(xiàng)目的交叉污染源。及時(shí)更換保護(hù)柱。當(dāng)峰的理論塔板數(shù)下降15%，或是柱壓上升15%，或是關(guān)鍵分離度下降15%時(shí)，都應(yīng)該及時(shí)更換保護(hù)柱。

    背景電導(dǎo)高，在化學(xué)抑制型電導(dǎo)檢測(cè)分析過(guò)程中，若背景電導(dǎo)高，則說(shuō)明抑制器部分存在一定問(wèn)題。其原因大多是操作不當(dāng)，例如：淋洗液或再生液流路堵塞，系統(tǒng)中無(wú)溶液流動(dòng)造成背景電導(dǎo)偏高或使用的電抑制器其電流設(shè)置太小等。膜被污染后交換容易下降亦會(huì)使背景電導(dǎo)升高。而失效的抑制器在使用時(shí)會(huì)出現(xiàn)背景電導(dǎo)持續(xù)升高的現(xiàn)象，此時(shí)應(yīng)更換一只新的抑制器。漏液，抑制器漏液的主要原因是抑制器內(nèi)的離子交換膜沒(méi)有充分水化。因此，長(zhǎng)時(shí)間未使用的抑制器在使用前應(yīng)先讓膜水化溶脹后再使用。另外要保證再生液出口順暢，因?yàn)榉磯狠^大時(shí)也會(huì)造成抑制器漏液。由于抑制器保管不當(dāng)造成抑制器內(nèi)的微膜收縮、破裂也會(huì)發(fā)生漏液現(xiàn)象。